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纳米氧化铝分散浆

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发表于 2006-12-28 14:44:00 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
纳米氧化铝分散浆
3 s9 E( Z& K9 b1 P! O产品代号:VK –L10C
& Z' H+ H' f5 j5 Y8 P7 E  a纳米氧化铝浆料晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好,可广泛应用于各种塑料、橡胶、陶瓷、耐火材料等产品的补强增韧./ n) I$ R1 \& U7 _  E2 P7 n- F
特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为显著。
- ^  P! ~9 L2 |2 Z0 m% k- T由于纳米氧化铝浆料是性能优异的远红外发射材料,作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。此外,氧化铝电阻率高,具有良好的绝缘性能,可应用于YGA激光晶的主要配件和集成电路基板中。6 f) R! B/ ]5 H$ _. _: n
纳米氧化铝浆料主要功能是提高紫外固化涂层的耐刮擦能力和耐用性,这些紫外固化涂料大量用于需要高度耐磨的领域,比如塑料地板等。其中VK –L10W是一种水性分散的纳米氧化铝颗粒。使用添加水平为0.5%到5%,将明显提高涂层的奶刮擦性能。VK –L10O 是醇类分散的氧化铝纳。同样,涂料配方添加范围也是0.5%到5%,将明显提高涂层的机械性能。, z' X9 {8 ?" [1 ]+ W2 |$ G
纳米氧化铝分散浆是我公司采用国际先进的分散工艺,将纳米氧化铝粉体(8-15nm)分散在水相介质中, 形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化铝水性浆料。纳米氧化铝分散浆具有纳米粉体料的特性外,纳米氧化铝分散浆具有更高的活性、易加入等特性。
' O1 I; ^* Z1 A6 g5 U- F相纳米氧化铝分散浆极大地发挥了纳米材料的作用。
4 K0 W; F; Q* U/ T9 G纳米氧化铝浆料技术指标3 |$ Q+ S9 \3 {$ }
项    目        技  术  指  标! w- x, \2 V4 u& t7 w% W
纳米氧化铝浆料外观        白色半透明液体
' g+ ~6 A! B9 r0 c纳米氧化铝平均粒度(nm)        8-158 n5 G$ b* ~$ c% {
纳米氧化铝含量%        20±0.51 G# p2 j# F! Y- ^2 L+ m# d/ `
溶剂        醇类或其他有机溶剂$ F" I9 \/ y# l
PH  20℃        5.0-5.5& [& G+ r! q# a) b* K; A3 @, B/ O8 P
纳米氧化铝干基纯度(%)        ≥99.9* R% T5 V4 j# E% ~3 U6 o
稳定性:长期放置仍然保持态单分散的纳米粒子。可以稀释许多倍仍然保持单分散稳定性。
, {! Q' q7 G* }+ D- u& g/ _8 h          应用范围
/ S( }$ A) O; s9 w. u   1、 透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。
( a5 H( F2 r" |$ K, {9 r( z   2、 化妆品填料。; r3 G, _; z+ |9 [$ z
   3、 单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。
" ~2 \, S* l. a( o   4、 高强度氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、刀具、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管。      & E% a/ p9 g& D- Z( {# c
   5、 精密抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带。& m! g( h2 i: ]2 ]
   6、 涂料、涂层、橡胶、塑料耐磨增强材料、高级耐水材料。
- I) {. X* \5 _: w- m: W   7、 气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料。* |( x- W* c. N9 N2 Q6 w6 v
   8、 催化剂、催化载体、分析试剂。! ?7 s0 z/ K. r( |8 l1 F9 A6 [8 p
   9、 宇航飞机机翼前缘等。
$ R  e+ f4 ]' W) a* W/ j8 A用量4 O  @6 E# H' B; D6 W/ Z7 o
   推荐纳米氧化铝浆料用量为0.5~5%,使用者应根据不同体系经过试验决定最佳添加量。3 g3 r& F; e* y) g$ }/ ~
包装规格: 25公斤桶装
$ D6 H" O* o* `5 }4 H# v9 B& {- G杭州万景新材料有限公司
; |% k8 j! \0 _& {& v0 k电话:0571-85968971  ,88866228    传真:0571-88852193
8 H4 F  F8 M! R6 L0 r邮箱:dycscience@hzcnc.com            www.veking.cn
2 @/ m$ n0 L3 R/ T8 g
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